光氧催化装备原理是以Fe2+或duFe3+及H2O2为介质，通过光助 - 芬顿反应爆发羟zhi基自由基使污染物获得dao降解 。紫外光线可以提高氧化反应的效果，是一种有用的催化剂 。紫外/臭氧(UV/03)组合是通过加速臭氧剖析速率，提高羟基自由基的天生
光氧催化装备原理
是以Fe2+或duFe3+及H2O2为介质，通过光助 - 芬顿反应爆发羟zhi基自由基使污染物获得dao降解 。紫外光线可以提高氧化反应的效果，是一种有用的催化剂 。
紫外/臭氧(UV/03)组合是通过加速臭氧剖析速率，提高羟基自由基的天生速率，并促使有机物形成大宗活化分子，来提高难降解有机污染物的处理效率 。
非均相光催化降解是使用光照射某些具有能带结构的半导体光催化剂如TiO2、ZnO、CdS、WO3、SrTiO3、Fe2O3等，可诱发爆发羟基自由基 。
在水溶液中，水分子在半导体光催化剂的作用下，爆发氧化能力极强的羟基自由基，可以氧化剖析种种有机物 。把这项手艺应用于POPs的处理，可以取得优异的效果，
可是并不是所有的半导体质料都可以用作这项手艺的催化剂，好比CdS是一种高活性的半导体光催化剂，可是它容易爆发光阳极侵蚀，在现实处理手艺中不太适用 。
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